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SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides...
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SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides on silicon for microelectronic applications
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SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides on silicon for microelectronic applications
Dubourdieu, C.
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Salicio, O.
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Rauwel, E.
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Matko, I.
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Ducroquet, F.
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Rossel, M. D.
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Van Tendeloo, G.
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Rochat, N.
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Daniele, S.
- 2015
international
Accès au document
Lien externe vers le document:
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00205121
Métadonnées du document
Auteur(s):
Dubourdieu, C.
/
Salicio, O.
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Rauwel, E.
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Matko, I.
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Ducroquet, F.
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Rossel, M. D.
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Van Tendeloo, G.
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Rochat, N.
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Daniele, S.
- 2015
Editeur:
HAL CCSD
Contributeur:
Institut de recherches sur la catalyse et l'environnement de Lyon (IRCELYON) ; Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL) - CNRS
mai 2007
Langue:
ANGLAIS
Candidats descripteurs:
[SDE.ES] Environmental Sciences/Environmental and Society
[CHIM.CATA] Chemical Sciences/Catalysis
